금속 타겟은 고순도 및 특정 미세 구조의 요구 사항을 충족하도록 특별히 가공되고 정제된 단일 금속 또는 금속 합금으로 구성됩니다. 일반적인 금속 타겟에는 구리, 알루미늄, 은, 티타늄 및 그 합금이 포함됩니다. 금속 타겟은 이온 주입, 박막 증착과 같은 공정의 성능과 효율성을 최적화하기 위해 고유한 물리적, 화학적 특성을 기반으로 선택됩니다. 우리 회사는 제공할 수 있습니다티타늄 Ti 스퍼터링 타겟, 99.95% 지르코늄 스퍼터 타겟크롬 타겟 및 기타 금속 타겟이 필요한 경우 이메일을 보내주세요.
세라믹 타겟은 산화물, 규산염, 질화물 등을 포함한 고순도 비금속 화합물로 구성됩니다. 이러한 타겟은 복잡한 화학적, 물리적 특성을 지닌 고체 물질을 형성하기 위해 고온 소결 방법으로 준비됩니다. 이들의 독특한 구성은 하이테크 응용 분야, 특히 반도체 제조, 광전자 재료 및 박막 기술에서 대체할 수 없는 위치를 제공합니다.
1. 비용과 준비의 어려움
세라믹 타겟의 준비는 고온 소결 공정이 필요할 뿐만 아니라 최종 제품의 성능을 보장하기 위해 순도와 미세 구조를 제어해야 하기 때문에 어렵습니다. 이에 반해, 금속 타겟의 제련 및 가공 공정은 상대적으로 간단하고, 가소성이 높으며, 성형 및 가공이 용이합니다.
비용 측면에서 볼 때, 금속 타겟은 금속 추출, 가공 및 준비 과정이 상대적으로 간단하기 때문에 일반적으로 세라믹 타겟보다 저렴합니다. 그러나 세라믹 타겟을 준비하려면 더 복잡한 공정이 필요합니다.
2. 물리화학적 특성
독특한 화학 구조로 인해 세라믹 타겟은 일반적으로 경도와 융점이 높아 고온에서 더욱 안정적이고 고온 필름 증착 공정에 적합합니다. 특히 고온이나 부식성 환경에 사용됩니다. 다른 원소와 쉽게 반응하지 않아 재료의 순도와 안정성을 유지합니다.
금속 타겟은 다양한 복잡한 형상 준비 요구 사항에 적합하며, 특히 열 및 전기 전도성 측면에서 세라믹 타겟보다 훨씬 우수하므로 우수한 열 관리 및 전기적 특성이 필요한 응용 분야에 적합합니다. 그러나 특정 조건에서는 산화되거나 부식될 수 있습니다.
3. 적용 분야
금속 타겟은 전도성 필름, 정반사 필름 제조, 자성 재료 제조 등 우수한 전도성과 열 전도성이 요구되는 상황에서 널리 사용됩니다. 뛰어난 가소성으로 인해 복잡한 모양의 타겟 제조에도 유리합니다.
고순도, 화학적 안정성 및 높은 융점으로 인해 세라믹 타겟은 반도체 제조, 고온 박막 증착 및 광전 재료 준비 분야에서 고유한 응용 분야를 가지고 있습니다. 이러한 응용 분야에는 매우 높은 성능 표준을 갖춘 재료가 필요한 경우가 많습니다.
