반도체용 몰리브덴 및 텅스텐 이온 주입 부품

그만큼몰리브덴 및 텅스텐의 이온 주입 부품집적 회로 제조의 핵심 장치입니다. 이온빔이 반도체 표면에 주입되어 증착되면 캐리어 농도와 전도도 유형이 변경됩니다.

이온 주입은 우수한 표면 개질로 인해 반도체 재료, 금속, 세라믹, 폴리머 및 기타 분야에서 널리 사용됩니다. 이온 주입은 대규모 집적 회로(IC) 제조의 핵심입니다. 몰리브덴 소자는 반도체 이온 주입기의 이온 소스 시스템에서 이온화 광선을 억제하고 차폐하는 핵심 소자입니다.

이온 주입 중 이온 소스가 플라즈마 이온으로 전환되면 2000도 이상의 작동 온도가 생성되고 이온 빔 방출도 많은 양의 이온 운동 에너지를 생성하므로 일반적인 금속은 빠르게 연소되고 녹습니다.

용도: 반도체용 몰리브덴 이온 주입기 부품

1. 이온 주입에 사용되는 대부분의 몰리브덴 부품은 반도체 산업에서 사용됩니다.

2. 고밀도, 고순도, 고정밀 및 균일한 내부 구조를 가진 몰리브덴 이온 주입 장치를 생산합니다.

3. 우리의 몰리브덴 이온 주입 부품은 중간 빔 인젝터 및 강한 빔 인젝터에 적합합니다.

4. 이온 주입용 몰리브덴 부품은 고객 도면에 따라 생산됩니다.

5. 야금, 희토류, 기계 및 기타 산업에 적합