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텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품
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텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품

텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품

텅스텐 몰리브덴 합금은 우수한 크리프 저항, 매우 낮은 증기압 및 열 팽창 계수, 선택적 내식성, 우수한 고온 저항, 우수한 전기 및 열 전도성, 고강도 및 순도, 강한 내마모성 및 긴 수명을 가지고 있습니다. 우리 회사가 생산 한 텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품은 고정밀, 고밀도, 고순도 및 안정적인 내부 구조를 가지고 있으며 이온 이식 기술의 중요한 구성 요소입니다. 텅스텐 몰리브덴 합금은 우수한 크리프 저항, 매우 낮은 증기압 및 열 팽창 계수, 선택적 내식성, 우수한 고온 저항, 우수한 전기 및 열 전도성, 고강도 및 순도, 강한 내마모성 및 긴 수명을 가지고 있습니다. 우리 회사가 생산 한 텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품은 고정밀, 고밀도, 고순도 및 안정적인 내부 구조를 가지고 있으며 이온 이식 기술의 중요한 구성 요소입니다.
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Product Details of텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품

텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품 설명

텅스텐과 몰리브덴은 유사한 물리적, 화학적 특성을 가진 동일한 계열의 내화 금속입니다. 텅스텐 몰리브덴 합금은 우수한 크리프 저항, 매우 낮은 증기압 및 열 팽창 계수, 선택적 내식성, 우수한 고온 저항, 우수한 전기 및 열 전도성, 고강도 및 순도, 강한 내마모성 및 긴 수명을 가지고 있습니다. 우리 회사가 생산 한 텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품은 고정밀, 고밀도, 고순도 및 안정적인 내부 구조를 가지고 있으며 이온 이식 기술의 중요한 구성 요소입니다.

텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품 응용 프로그램

열전도율과 내식성이 매우 우수한 텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품은 주로 반도체, 금속 가공 및 세라믹과 같은 산업의 이온 주입 공정에 사용됩니다. 텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품의 사용은 이온 주입의 정확성과 순도를 보장 할 수 있습니다. 이 공정은 재료 표면의 특성 (예 : 결정 구조 밀도, 전기 전도도 및 내마모성)을 변경할 수 있으며 대규모 집적 회로 제조에 필요한 기술입니다.


텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품 사양 :

WMo70, WMO50, WMO20 등

순도

≥98%

기술

단련, 열간 압연, 냉간 압연, 용접, 펀칭, 단조, 압연

밀도

10.2g / 센티미터3, 19.2g / 센티미터3

온도 범위

1100-2000°C

표면

블랙, 산성 산세, 알칼리성 청소, 광택, 밝은

모양

삼각형, 사각형, 디스크 또는 그리기 위해 제작

증명

ISO 9001, ISO14001


텅스텐 몰리브덴 이온 임플란트 부품 사진:

Customized Tungsten Molybdenum Ion Implant Part

Tungsten Molybdenum Ion Implantation Parts

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