개요

TZM 소재몰리브덴 매트릭스와 티타늄(0.4{5}}0.55%), 지르코늄(0.06-0.12%), 탄소(0.01-0.04%) 첨가제가 포함된 고성능 내화 금속 합금입니다. 티타늄, 지르코늄 및 탄소를 첨가하면 고온 강도와 크리프 저항성이 크게 향상되는 동시에 우수한 열 안정성과 열 전도성을 유지합니다. TZM 플레이트는 항공우주 엔진 부품, 고온 산업용 노 라이닝, 열간 등압 성형 장비, 원자로 구조 등 극한 환경 응용 분야에 널리 사용됩니다. 20년 이상의 생산 및 수출 경험을 보유한 비철금속 공급업체인 팬메탈(FANMETAL)은TZM 막대, 몰리브덴 포일, TZM 관및 기타 몰리브덴 및 몰리브덴 합금 제품.

TZM 재료 특성

탁월한 고온-강도

1000~1400도의 고온에서도 순수 몰리브덴보다 훨씬 높은 강도와 크리프 저항성을 유지하므로 고온-구조 부품에 이상적인 선택입니다.

높은 재결정 온도

순수 몰리브덴(~1000도)보다 약 300도 높은 약 1300~1400도입니다. 고온에서 사용시 연화 및 변형이 쉽지 않으며 구조적 안정성이 우수합니다.

우수한 열전도율

열전도율이 좋고(142W/m·K) 열팽창 계수가 낮아(5.3×10⁻⁶/K @20~1000도) 정밀 고온-부품에 적합합니다.

우수한 기계적 성질

상온에서의 인장강도, 항복강도, 신율은 매우 높아 강도와 어느 정도의 가소성이 결합되어 대부분의 다른 내화 금속보다 가공이 더 쉽습니다.

차원

주요재료	티타늄-지르코늄-몰리브덴 합금
청정	99.95% 이상
너비	100-600mm
길이	500-2000mm
두께	3-100mm
밀도	.g/cm³
항복 강도	800-1000MPa
표면	흑색 산화물, 화학적 세척, 연마, 알칼리 세척
기준	ASTM B386, GB/T 3463-2017, DIN 17320
인증	ISO 9001

요소	중량 %
C	0.01 - 0.04
철	최대 0.01
H	최대 0.0005
모	잔류물(99.2 이상)
N	최대 0.002
니	최대 0.005
O	최대 0.03
시	최대 0.005
티	0.4 - 0.55
Zr	0.06 - 0.12

애플리케이션

1. 고온-산업 용광로 및 열처리 장비

- 가열 요소 및 지지대: 1800도 이하에서 작동하는 용광로에 적합하며 순수 몰리브덴보다 변형에 대한 저항력이 더 큽니다. 발열체의 단락-을 방지하고 용광로 유지보수 간격을 연장합니다.

- 절연/반사 스크린 지지용 TZM 합금판: 진공 및 수소 용광로에서 다층 절연 재료(예: 몰리브덴 호일, 흑연 펠트)를 뒷받침합니다. 산화 및 크리프에 대한 저항력이 있어 용광로 내 과도한 온도 변화를 유발하는 절연층 붕괴를 방지합니다.

- 용광로 라이너 및 재료 트레이로 제작: 크리프 저항 및 치수 안정성으로 고온 가공물(예: 금속 단조품, 세라믹 블랭크)을 지원하여 가공물 평탄도를 보장하고 처리 오류를 최소화합니다.{1}}

- 열전대 보호 튜브용 기판 역할: 구조적 무결성을 유지하고 튜브 정렬 불량을 유발할 수 있는 기판 변형을 방지하고 측정 정확도를 보장하기 위해 고온 측정 시스템에 사용됩니다.-

2. 항공우주 산업 응용

- 로켓 엔진 노즐 스로트 라이너 제조: 3000K 가스 침식 및 열 응력을 견디며 극도의 고온 조건에서도 안정적인 엔진 작동을 보장합니다.{2}}

- 극초음속 비행체의 열 구조 부품으로 적용: 극초음속 비행 중 고온 환경을 견딜 수 있도록 설계된 날개 앞쪽 가장자리 및 노즈콘 지지 구조(코팅 통합 필요) 등{1}}

- 위성 추진기 전극 및 단열 패널 생산: 이온 추진 또는 전열 추진 시스템과 호환되며 극한의 우주 환경에서 작동 요구 사항을 충족합니다.

3. 유리 및 광학재료 제조

- 용융 유리 전극 및 교반기용 기판으로 사용되는 TZM 몰리브덴 합금 판: 액정 유리 및 광학 유리 용해로에 사용되며 유리 용해 부식에 저항하여 안정적인 용해 및 교반 공정을 보장합니다.

- 피드 채널 게이트 플레이트 및 흐름 제어 플레이트로 제작: 고온에서 변형 없이 고온 용융 유리 흐름을 조절하여 정밀한 흐름 제어를 보장합니다.-

- 금형 지지판 역할: 정밀 광학 부품의 열간 프레스 성형에 사용되며, 금형 구조 무결성을 유지하고 광학 요소 성형 정확도를 보장합니다.

4. 고급-제조 부문

- 반도체 장비의 고온 베이스 및 가열 트레이 제조용 TZM 몰리브덴: 화합물 반도체 에피택셜 성장에 적합하며 고온 및 탁월한 청결성에 대한 반도체 제조 요구 사항을 충족합니다.

- 이온 주입기의 고온 구성 요소 및 타겟 백킹 플레이트로 활용: 이온 주입 공정 중 구성 요소의 열 안정성과 안정적인 타겟 지원을 보장합니다.

- 사파이어/실리콘 카바이드 결정 성장로용 도가니 지지 구조를 생산합니다. 결정 성장 중 극한의 온도를 견디며 안정적인 도가니 배치를 보장하고 결정 품질을 향상시킵니다.

- 고에너지 물리학 장비 타겟 및 빔 배플용 백킹 플레이트로 제작: 고에너지 물리학 실험의 극한 조건을 견디고-장비 작동 안전을 보호합니다.

- 진공 코팅 장비의 도가니/증발 보트용 기판 역할: 내화성 금속 또는 화합물을 증발시키는 데 사용되며 코팅 공정 중 고온을 견디어 코팅 효율성과 품질을 보장합니다.

프로세스

① TZM 합금 조성 규격에 따라 각각의 금속분말을 정밀칭량하고 불활성 분위기의 볼밀에서 균일하게 혼합한다.

② 혼합된 분말을 강철 주형에 균일하게 분배하고 냉등압성형을 통해 고밀도-밀도의 그린 컴팩트를 형성합니다. 압분체에는 균열이나 박리 등의 결함이 없어야 합니다.

③ 고온-진공 소결은 압분체 내에서 몰리브덴 분말 입자의 확산 결합을 유발합니다. 동시에 티타늄과 지르코늄은 탄소와 반응하여 'TiC 및 ZrC 경질상'을 형성하여 밀도와 강도가 높은 소결체를 생성합니다.

④ 열간 압연 후 냉간 압연을 여러 번 반복하여 소재를 소성 변형시켜 목표 판 두께와 폭을 얻습니다. 이러한 변형은 또한 입자 구조를 개선하여 기계적 특성을 더욱 향상시킵니다. (판 치수를 안정화하고 후속 가공 중 변형을 방지하기 위해 각 압연 패스 후에 어닐링이 필요합니다.)

⑤ 플레이트는 레벨링(레벨링 기계를 통해 뒤틀림 수정) 및 트리밍(고객 요구 사항에 따라 표준 치수로 절단)을 거칩니다. 특정 고급-애플리케이션에는 추가 연마 또는 코팅이 필요합니다(예:-산화 방지 코팅).

⑥ 화학조성분석, 치수 및 육안검사, 미세조직검사, 전문성능시험 등 종합적인 품질검사를 실시합니다.

영화

TZM Moly Plate

Molybdenum Plates

동영상

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