순수 이리듐 스퍼터링 타겟

순수 이리듐 스퍼터링 타겟

FANMETAL은 PVD 코팅 시스템에 사용되는 순도 99.95%의 순수 이리듐 스퍼터링 타겟을 공급합니다. 일반적으로 두께는 1mm, 2mm, 3mm 및 5mm입니다. 우리는 디스크, 사각형, 기둥, 단계 및 사용자 정의 모양과 같은 다양한 모양의 이리듐 (Ir) 스퍼터링 타겟을 생산합니다.

이리듐 (Ir) 스퍼터링 타겟은 반도체, 물리적 증기에 사용할 수 있습니다. 증착 (PVD) 디스플레이, 화학 기상 증착 (CVD) 및 광학 응용 프로그램. 우리는 고순도 이리듐 (Ir)의 생산을 전문으로합니다. 가장 높은 밀도와 가장 낮은 가격을 가진 스퍼터링 타겟.

순수한 이리듐 스퍼터링 대상 그림 :

대부분의 귀금속은 용융, 주조 및 후속 열기계 변형으로 처리 할 수 있습니다. 일부 귀금속 합금 및 이리듐, 루테늄 등과 같은 선택된 귀금속의 경우 분말 가공이 적합한 가공 경로입니다. FANMETAL은 각 귀금속 또는 귀금속 합금에 대해 가장 진보 된 기술로 제조 된 제품을 제공 할 수 있습니다.

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