순수 탄탈 디스크

순수 탄탈룸 디스크 설명 및 적용 탄탈룸은 매우 연성, 가단성 및 가공성이 있으며 압연, 냉간 단조, 펀칭 또는 드로잉과 같은 다양한 공정을 견딜 수 있습니다. 순수한 탄탈륨 디스크는 고순도, 고경도, 쉬운 제조, 우수한 ...

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순수 탄탈륨 디스크 설명 및 적용

탄탈륨은 매우 연성, 가단성 및 가공성이 있으며 압연, 냉간 단조, 펀칭 또는 드로잉과 같은 다양한 공정을 견딜 수 있습니다. 순수 탄탈 디스크는 고순도, 고경도, 쉬운 제조, 우수한 내식성, 고온 저항, 우수한 용접 성능 및 긴 수명의 특성을 가지고 있습니다. 우리 회사는 주로 진공 전자로 용해 기술을 채택하고 독특한 압연 공정을 사용하며 복잡한 열처리와 정확한 소둔 온도 및 시간을 통해 고품질의 순수 탄탈 디스크를 생산합니다. 순수 탄탈륨 디스크는 반도체 산업, 유리 코팅 산업 및 광통신 산업에서 탄탈륨 스퍼터링 타겟으로 사용할 수 있습니다. 탄탈륨 제품에 대한 수요가 증가함에 따라 의료, 화학, 군사, 전자, 기계, 세라믹, 원자력 산업, 항공 우주, 화학 실험실 및 교육과 관련된 탄탈륨의 적용 범위도 넓어졌습니다.

순수 탄탈 디스크 명세서:

등급	C	O	N	H	철	모	NB	니	시	티	W
탄탈	0.01 최대	0.015 최대	0.01	0.0015 최대	0.01 최대	0.02	0.1 최대	0.01 최대	0.005 최대	0.01	0.05

등급	Ta1,Ta2,R05200,R05400,R05252
청정	Ta 99.95% 이상 -99.999%
기술	열간 압연, 냉간 압연, 절단, 드릴링 성형, 가공, 연삭, 연마
지름	Φ15mm-400mm
밀도	16.1g/cm 이상³
두께	3mm-30mm
녹는 점	3017도
표면	검정, 알칼리성 청소, 광택, 밝은
배달 시간	15-20일
기준	ASTM B708, ASTM B521, AMS 5708, GB/T 3628
인증	ISO9001

순수한 탄탈륨 디스크 그림:

China Pure Tantalum Disc

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