고순도 붕소 타겟

고순도 붕소 타겟 특징 및 용도

코팅 타겟은 적절한 기술 조건에서 마그네트론 스퍼터링, 다중 아크 이온 도금 또는 기타 유형의 코팅 시스템을 통해 기판에 다양한 기능성 필름을 형성하는 스퍼터링 소스입니다. 고순도 붕소 타겟은 필름 제작에 사용되는 재료입니다. 분말 야금 공정 또는 진공 아크 용해를 통해 붕화물 재료로 생산됩니다. 붕소 타겟은 높은 가공성, 높은 열 안정성, 높은 밀도, 우수한 내식성, 높은 기계적 강도, 높은 코팅 품질, 내마모성 및 긴 사용 수명과 같은 우수한 특성을 가지고 있습니다. 고순도 붕소 타겟은 주로 전자 장치, 반도체 칩, 태양 전지, 광학 장치 및 기타 고순도의 스퍼터링을 위한 하드 코팅, 자성 필름, 광학 필름, 반사 방지 필름 등과 같은 다양한 기능성 필름을 생산하는 데 사용됩니다. 등급 장식 용품

고순도 붕소 타겟 사양:

고순도 붕소 표적 사진

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