니켈 크롬 로터리 스퍼터링 타겟

니켈 크롬 로터리 스퍼터링 타겟 설명

니켈 크롬 회전식 스퍼터링 타겟은 일반적으로 99.5% ~ 99.99% 범위의 순도로 연삭, 선반, 압연 및 절단과 같은 일련의 기계적 처리뿐만 아니라 3층 전기 분해 공정 후 제련 및 주조에 의해 만들어집니다. 니켈 크롬 회전식 스퍼터링 타겟에 의해 스퍼터링된 박막은 낮은 온도 의존성, 높은 저항률, 높은 감도 계수, 높은 전기 및 열 전도성, 우수한 내산화성, 균일한 미세 구조, 기공 없는 매끄러운 표면 및 우수한 내구성 등을 가지고 있습니다. 다른 합금 스퍼터링 타겟과 비교하여 , 그것은 더 나은 물리적 및 화학적 특성을 가지고 있습니다. PVD 또는 CVD 코팅 산업에서 니켈 크롬 회전식 스퍼터링 타겟 및 그 필름은 내마모성, 내마모성, 내열성 및 내식성과 같은 표면 강화 필름뿐만 아니라 저 방사율 유리, 마이크로 전자 공학, 자기 기록에 널리 사용됩니다. , 반도체 및 박막 저항기 및 기타 첨단 기술 산업.

니켈 크롬 로터리 스퍼터링 타겟 명세서:

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