티타늄 스퍼터링 타겟

FANMETAL 공급 순수 99.999 % 티타늄 스퍼터링 타겟. 99.5 %에서 99.9999 %까지의 순도. 현재 4 메가 비트 VLSI의 경우 티타늄의 순도가 4N5 (99.995 %) ~ 5N (99.999 %)에 도달해야하며 16 메가 비트 3 세대 VLSI는 티타늄의 순도가 6N (99.9999 %) 수준에 도달해야합니다.

우리는 또한 고순도 99.9999 %, 귀금속 타겟 (Au, Ag, Pt), 타겟 본딩 서비스, 도가니 라이너 (구리, 몰리브덴, 텅스텐 등)에 금속 타겟 및 증발 재료를 제공합니다.

티타늄 스퍼터링 대상 그림:

티타늄 스퍼터링 타겟의 주요 응용 프로그램은 다음과 같습니다 :

1. 생물학적 물질

티타늄은 비자성 금속이며 강한 자기장에서 자화되지 않습니다. 그것은 인체와 잘 어울리며 독성 부작용이 없습니다. 그것은 인간 임플란트 장치를 제조하는 데 사용할 수 있습니다. 일반적으로 의료용 티타늄 재료는 고순도 티타늄 수준에 도달하지 못하지만 티타늄의 불순물 용해를 고려할 때 임플란트 용 티타늄의 순도는 가능한 한 높아야합니다. 문헌은 또한 고순도 티타늄 와이어가 생물학적 스트래핑 재료로 사용될 수 있다고 언급합니다. 또한, 카테터가 매립된 티타늄 주사 바늘은 또한 고순도 티타늄 수준에 도달하였다.

2. 장식 재료

고순도 티타늄은 대기 내식성이 우수하며 대기에서 장기간 사용한 후에도 색상이 변하지 않아 티타늄의 원래 색상을 보장합니다. 따라서 고순도 티타늄은 건축 장식 재료로도 사용할 수 있습니다. 또한 최근 몇 년 동안 팔찌, 시계 및 안경 프레임과 같은 일부 고급 장식 및 일부 착용 용품은 내식성, 변색, 좋은 광택의 장기 유지 및 인간의 피부와 접촉하는 무감각의 특성을 활용하는 티타늄으로 만들어집니다. 일부 장식에 사용 된 티타늄의 순도는 5N 수준에 도달했습니다.

3. 흡기 재료

티타늄은 화학적 성질을 가진 매우 활동적인 금속으로서 고온에서 많은 원소 및 화합물과 반응 할 수 있습니다. 고순도 티타늄은 활성 가스 (예 : O2, N2, CO, CO2 및 650 ° C 이상의 수증기)를 강력하게 흡착합니다. 펌프 벽에서 증발된 Ti막은 높은 흡착 능력을 가진 표면을 형성할 수 있다. 이 특성으로 인해 Ti는 초고진공 펌핑 시스템에서 게터로 널리 사용됩니다. 승화 펌프, 스퍼터링 이온 펌프 등에 사용되는 경우 스퍼터링 이온 펌프의 궁극적 인 작동 압력은 10-9Pa만큼 낮을 수 있습니다.

4. 전자 정보 자료

최근 몇 년 동안 반도체 기술 및 정보 기술과 같은 첨단 기술 분야의 급속한 발전으로 스퍼터링 타겟에 사용되는 고순도 티타늄의 양 (그림 1 참조), 집적 회로, DRAM 및 평판 디스플레이가 증가했습니다. 재료의 순도 요구 사항은 점점 더 높아지고 있습니다. 반도체 VLSI 산업에서 티타늄 실리콘 화합물, 티타늄 질소 화합물, 텅스텐 티타늄 화합물 등은 제어 전극의 확산 장벽 및 배선 재료로 사용됩니다. 스퍼터링 방법은 이러한 재료를 제조하는 데 사용되며, 스퍼터링 방법에 사용되는 티타늄 타겟은 특히 알칼리 금속 원소 및 방사성 원소에 대해 높은 순도를 필요로합니다.

최근 몇 년 동안, 일치하는 스퍼터링 장비는 스퍼터링 티타늄 타겟과 동일한 순도의 고순도 티타늄을 사용하기 시작했습니다.

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