티타늄 실리콘 스퍼터링 타겟

FANMETAL은 PVD 코팅 시스템에 사용되는 Ti-Si 합금 티타늄 실리콘 스퍼터링 타겟을 공급합니다. TiSi 합금 퇴비화 : 85 : 15at% 80 : 20at% 75 : 25at% . 우리는 또한 고순도 99.9999 %, 귀금속 타겟 (Au, Ag, Pt), 타겟 본딩 서비스, 도가니 라이너 (구리, 몰리브덴, 텅스텐 등)에 금속 타겟 및 증발 재료를 제공합니다.

마그네트론 스퍼터링 코팅은 새로운 유형의 물리적 증기 코팅 방법입니다. 그것은 전자총 시스템을 사용하여 도금 될 물질에 전자를 방출하고 집중시켜 스퍼터링 된 원자가 운동량 변환 원리를 따르고 더 높은 운동 에너지로 물질을 남겨 둡니다. 필름을 증착하기 위해 기판으로 날아갑니다. 도금되는 이 물질을 스퍼터링 타겟이라고 한다. 스퍼터링 대상에는 금속, 합금 및 세라믹 화합물이 포함됩니다.

티타늄 실리콘 스퍼터링 대상 그림:

형식	화학 성분.	순도	셰이프	가공
알루미늄 기반 합금	알 - 밀리그램	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	알 - 시	4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	알 - 시 - 밀리그램	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	알 - 시 - 쿠	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Zn-Al	4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
코발트 기반 합금	공동 Cr	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	코페	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	코니즈	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	코니-Cr	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
니켈 기반 합금	Ni-Cr	3N5	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Ni-Co	4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Ni-Cu	4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Ni-Cr-Al	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Ni-Cr-Al-Si	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Ni-Cr-Si	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	니페	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	니-V	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
티타늄 기반 합금	티알	4N	잉곳, 입자, 대상	핫 등압 프레스
	Ti-Cr	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	티시	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Ti-Zr	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	W-Ti	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
다른 합금	Cr-Si	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	특수 소결
	Cr-V	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Fe-Mn	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Fe-Co-B	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	특수 소결
	인-센	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융
	Zr-Fe	3N, 4N	잉곳, 입자, 대상	진공 용융

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