텅스텐 플레이트
텅스텐 플레이트
설명:텅스텐은 모든 금속 중에서 융점이 가장 높고 화학적 성질이 비교적 안정하다. 높은 경도와 밀도로 인해 가공이 매우 어렵습니다. 텅스텐 판은 고품질 텅스텐 분말을 사용하여 주로 분말 야금으로 생산되며 우수한 성능의 슬래브로 가공 된 다음 특수 압연 기술로 생산됩니다. 산세 또는 알칼리 세척 후 표면은 강철 회색 또는 은백색으로 나타납니다. 텅스텐 판 압연은 열간 압연, 온간 압연 및 냉간 압연으로 나눌 수 있으며 표면은 부드럽고 평평하며 두꺼운 피부, 박리 및 균열 없음 불순물 내포물 등. 텅스텐 판의 텅스텐 함량은 99.95%로 높으며 이는 강한 내식성, 우수한 고온 산화 저항, 높은 내마모성, 우수한 고온 강도, 우수한 텅스텐의 모든 특성 및 장점을 포함합니다. 전자 방출 성능, 낮은 열팽창 계수 및 우수한 처리 성능. 기계적 특성은 주로 압력 처리 및 열처리 상태에 의해 결정됩니다.
신청:높은 경도, 높은 융점 및 강한 방사선 흡수 능력으로 인해 텅스텐 판은 방사선 차폐 재료, 열 차폐 및 기타 고온 내성 또는 방사선 내성 제품의 선호되는 원료로 사용할 수 있습니다. 텅스텐 판은 전자 기술, 의료, 항공 우주, 화학, 기계, 신 에너지, 야금 및 기타 산업 분야에서 널리 사용됩니다. 예를 들어:
1. 야금 산업에서 텅스텐 판은 텅스텐 보트 또는 몰리브덴 보트 제조용 원료로 사용할 수 있으며 고온로의 발열체, 열 차폐 및 내화 부품 생산에 사용할 수 있으며 이온에도 사용할 수 있습니다. 주입 캐소드 및 애노드, 스퍼터링 및 코팅.
2. 의료 산업에서 텅스텐 판은 의료 CT, 실험실 장비, 방사성 주사기 등에 사용할 수있는 방사선 차폐 스크린의 원료로 사용됩니다.
3. 전자 및 전력 산업에서 텅스텐 판은 전기 광원 부품, 전기 진공 부품, 반도체 기판, 전자 튜브 어셈블리, 전자빔 증발 음극 및 감광성 재료 등을 생산하는 데 사용할 수 있습니다.
텅스텐 플레이트 사양:
등급 | W1,W2 |
기술 | 압출, 단조, 압연, 소결 |
크기 | 사용자 정의 수락 |
청정 | W 99.95% 이상 |
두께 | min: 0.10mm;max: >6.0mm |
길이 | <> |
밀도 | 19.3g/cm3 |
녹는 점 | 3410도 |
표면 | 열간 압연, 냉간 압연, 광택, 전해 광택제 |
기준 | GB/T3875, ASTM B760, ASTM B777 |
인증 | ISO9001 |
텅스텐 플레이트 사진:



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