텅스텐 W 스퍼터링 라운드 타겟

텅스텐 W 스퍼터링 라운드 타겟분말 야금 가공을 통해 고순도 텅스텐 재료로 만들어지며 반도체, 박막 증착(예: 태양 전지, 광학 부품 및 전자 부품 코팅), 광원 산업, X선 튜브(예: 의료 등)에 널리 사용될 수 있습니다. 이미징 및 재료 분석) 등. 당사는 다년간의 비철금속 생산 전문 경험을 보유하고 있으며, 당사 제품은 ISO 인증을 획득하였으므로 안심하고 주문하실 수 있습니다.

텅스텐 W 스퍼터링 라운드 타겟의 장점

1. 고밀도 재료인 텅스텐은 전자빔의 에너지를 효과적으로 흡수하고 다양한 유용한 방사선 및 입자빔을 생성할 수 있습니다.

2. 높은 인장 강도, 우수한 연성 및 우수한 가공 성능

3. 높은 융점, 높은 열전도율 및 고온 저항

4. 내식성, 내마모성 및 긴 수명

5. 텅스텐 타겟을 사용하면 고순도, 우수한 균일성 및 정확한 두께의 텅스텐 필름을 얻을 수 있습니다.

텅스텐 W 스퍼터링 라운드 타겟 치수:

텅스텐 W 스퍼터링 라운드 타겟 사진

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