지르코늄 702 스퍼터 라운드 타겟
지르코늄 702 스퍼터 원형 타겟 기능 및 응용
Zirconium 702 Sputter Round Target의 준비 과정에는 다음이 포함됩니다. 먼저 고순도 지르코늄 재료를 준비한 다음 전자빔 용융으로 처리 한 다음 단조, 압연, 어닐링, 가공, 크기 절단 및 청소와 같은 일련의 처리를 수행합니다. . Zirconium 702 Sputter Round Target에 의해 스퍼터링된 지르코늄 코팅은 코팅된 공구의 내마모성, 내식성 및 내구성을 향상시킬 수 있으며 고강도 가공에서 보다 우수한 기계적 특성을 발휘할 수 있습니다. Zirconium 702 Sputter Round Target은 장식용 코팅, 주로 집적 회로, 정보 저장, 액정 디스플레이, 레이저 메모리, 전자 제어 장치 등과 같은 전자 및 정보 산업에 사용되는 반도체 및 광학 코팅 분야이며 유리 코팅 분야에서도 사용할 수 있습니다. 내마모성 재료, 고온 내식성, 고급 장식 제품 및 기타 산업에도 사용할 수 있습니다.
지르코늄 702 스퍼터 라운드 타겟 사양:
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등급 |
Zr702 |
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청정 |
99.9퍼센트 -99.99퍼센트 |
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밀도 |
6.54g/㎤3 |
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기술 |
열간 정수압 프레스, 소결, 진공 용해, 단조, 압출, 가공 |
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원형 직경 |
외경:50-300mm,ID:30-280mm |
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두께 |
1mm-35mm |
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길이 |
100mm-4000mm |
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유형 |
평면, 튜브, 디스크, 실린더 |
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배달 시간 |
15-20일 |
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표면 |
광택, 알칼리 청소, 연삭, 흑색 산화물 등 |
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인증 |
ISO9001 |
지르코늄 702 스퍼터링 원형 타겟 그림:


자주하는 질문
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