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텅스텐 원형 스퍼터링 타겟
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텅스텐 원형 스퍼터링 타겟

텅스텐 원형 스퍼터링 타겟

텅스텐 원형 스퍼터링 타겟 설명 텅스텐은 일반적으로 사용되는 타겟 소재로서 X선 튜브에서 핵심적인 역할을 합니다. 음극 작동 온도는 약 2000K입니다. 방출된 전자는 수만에서 수십만 볼트로 가속된 후 타겟에 충돌합니다...
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Product Details of텅스텐 원형 스퍼터링 타겟

텅스텐 원형 스퍼터링 타겟 설명

일반적으로 사용되는 타겟 소재인 텅스텐은 X선 튜브에서 핵심적인 역할을 합니다. 음극 작동 온도는 약 2000K입니다. 방출된 전자는 수만에서 수십만 볼트로 가속된 후 타겟 표면에 충돌하여 침투성이 높은 X선을 생성합니다. 텅스텐 원형 스퍼터링 타겟은 일반적으로 진공 용융 및 열간 압착으로 만든 다음 압연, 절단 및 어닐링합니다. X선 결함 검출기, 조명 산업, 진공 코팅 처리, 전자 및 전기 진공 산업, 석유 시추, 금속 제련, 항공 우주 및 의료 영상 검사에 널리 사용할 수 있습니다.
텅스텐 원형 스퍼터링 타겟의 장점:
1. 높은 용융점: 금속 텅스텐의 용융점은 최대 3410도이며, 쉽게 녹지 않고 고에너지 전자빔 폭격을 견딜 수 있습니다.
2. 고밀도: 엑스선 기계가 더 높은 에너지 출력을 생성하고 영상 품질을 향상시킬 수 있습니다.
3. 고온 내구성 및 방열 성능이 우수합니다. 고온 환경에서 부식되기 쉽지 않으며, 발생한 열을 빠르게 소산시켜 과열로 인한 장비 손상을 방지합니다.
4내식성, 크립 저항성, 내마모성이 우수함
5. 후방 산란 감소: 금속 텅스텐은 X선이 충돌할 때 후방 산란을 줄여 배경 소음을 줄이고 영상의 선명도를 높이는 데 도움이 됩니다.

 

텅스텐 원형 스퍼터링 타겟 사양:

등급

W1,W2

청정

95% 이상

지름

0.25mm-100mm

두께

1-12mm

녹는 점

3410도

밀도

19.3g/cm3

표면

광택, 접지

배달 시간

25일

기준

ASTM, GB

인증

ISO9001

 

텅스텐 원형 스퍼터링 타겟 사진:

Tungsten Wafers

Tungsten Target

인기 탭: 텅스텐 원형 스퍼터링 타겟, 공급업체, 제조업체, 공장, 맞춤형, 도매, 가격, 견적, 판매

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