붕소 스퍼터링 타겟
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Product Details of붕소 스퍼터링 타겟
붕소 스퍼터링 타겟 설명
스퍼터링 공정은 주로 다른 고체 기판에 초고순도 스퍼터링된 금속 또는 산화물 재료의 박막을 증착하고 이온 충격에 의해 타겟 재료의 제거 및 방향성 가스/플라즈마 상으로의 변환을 제어하는 것입니다. 붕소는 태양계와 지각에 소량 존재하는 원소입니다. 상온에서는 약한 전도체이고 고온에서는 양호한 전도체입니다. 붕소 스퍼터링 타겟은 우수한 물리적 및 화학적 특성, 높은 융점, 가장 작은 평균 입자 크기, 고온 내식성, 우수한 내구성, 우수한 전기 전도도 및 높은 비용 성능을 가지고 있습니다. 화학기상증착(CVD) 및 물리기상증착(PVD) 공정으로 우수한 준비재료입니다. 붕소 스퍼터링 타겟은 주로 원자력 산업, 유리 코팅 산업, 전자 정보 산업, 화학 산업, 생물 의학, 항공 우주 산업, 고급 장식 제품 및 금속 제련 산업 등에서 널리 사용됩니다.
붕소 스퍼터링 타겟 사양:
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재료 |
붕소(B) |
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기술 |
열간 정수압 프레스, 결정립 미세화, 소결, 단조, 어닐링 |
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청정 |
99-99.99퍼센트 |
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크기 |
디스크, 플레이트, 스텝(직경 480mm 이하, 두께 1mm 이상) 튜브(직경< 300mm,Thickness >2mm) |
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밀도 |
2.34g/㎤3 |
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녹는 점 |
2300도 |
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비점 |
2550도 |
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모양 |
디스크, 플레이트, 컬럼 타겟, 스텝 타겟, 맞춤형 |
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표면 |
광택, 알칼리 세정, 연삭, 흑색 산화물 등 |
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인증 |
ISO9001 |
붕소 스퍼터링 타겟 사진:
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