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크롬 금속 스퍼터 타겟
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크롬 금속 스퍼터 타겟

크롬 금속 스퍼터 타겟

크롬 금속 스퍼터 타겟 설명 크롬은 융점이 높고 내산화성이 우수하여 크롬 타겟이 고온 환경에서 안정적으로 유지될 수 있습니다. 또한 크롬 타겟의 전자빔 증착 및 마그네트론 스퍼터링 특성은 다음과 같은 이점을 제공합니다.
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Product Details of크롬 금속 스퍼터 타겟

크롬 금속 스퍼터 타겟 설명

크롬은 녹는점이 높고 내산화성이 좋아 고온 환경에서도 크롬 타겟이 안정적으로 유지됩니다. 또한 크롬 타겟의 전자빔 증착 및 마그네트론 스퍼터링 특성은 마이크로 전자공학 처리 및 광학 코팅과 같은 첨단 기술 분야에서 고유한 이점을 제공합니다. 크롬 금속 스퍼터 타겟은 첨단 박막 제조에 사용되는 핵심 소재입니다. 그들은 종종 진공 제련, 분말 야금 및 전기 화학적 증착으로 만들어집니다. 고순도, 높은 접착력, 우수한 균일성 및 내식성을 갖춘 제품을 생산할 수 있습니다. 우수한 내마모성, 내구성을 지닌 고품질 필름입니다. 크롬 금속 스퍼터 타겟은 고급 전자 산업, 마이크로 전자 장치, 광학 코팅 산업, PVD 기술, 태양 에너지 및 조명 산업, 항공 우주 산업 및 진공 코팅 산업 등에 널리 사용될 수 있습니다.

크롬 금속 스퍼터 타겟 사양:

등급

CR009302, CR009500, CR009600 등.

기술

열간 등방압 프레싱, 입자 미세화, 소결, 단조, 어닐링

청정

99.95%,99.9%,99.99%,99.999%

유형

평면 스퍼터링 타겟, 회전식 스퍼터링 타겟, Acr 음극.

두께

3mm-40MM

길이

10mm-2000mm

지름

63mm,100mm,105mm,160mm

녹는 점

1857도

밀도

7.2g/cm23

표면

세련

인증

ISO9001

크롬 금속 스퍼터 타겟 그림:

Chromium Cr Sputtering Targets

ChromiumCr Sputtering Target

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