개요

A 크롬 표적마그네트론 스퍼터링 및 전자 빔 증발과 같은 박막 퇴적 기술에서 크롬 박막을 생산하는 데 사용되는 주요 소모품으로 . 주로 고급 금속 크롬으로 만들어졌으며 분말 금속, 용융 및.와 같은 공정을 통해 제조됩니다 ({}} {}}.. (e . g {., Cu 상호 연결 장벽 레이어 및 포토 리소 그래피 마스크 광선 방향 레이어), 광학적 구성 요소 (e . g ., 적외선 반사기 및 장식용 크롬 도금), 기계식 마모 코팅 (E {}}} 베어링 및 곰팡이 표면 보호), 항공 우주의 고온 저항성 코팅 및 화학 산업의 항-실패 코팅, 무엇보다도 .

99.95% 크롬 표적 특성

우수한 물리적 특성

크롬의 MOHS 경도는 약 9 개이며, 다이아몬드와 몇 개의 슈퍼 하드 재료 . 스퍼터링으로 증착 된 크롬 필름의 경도는 600-1200 HV .에 도달 할 수 있습니다.

뛰어난 화학적 안정성

크롬은 공기 중에서 밀도가 높은 CR2O2 패권 필름을 쉽게 형성하는데, 이는 산 (황산, 염산), 알칼리성 및 소금 용액 . 산에 대한 강한 부식 내성을 갖는다. 예를 들어, 선체의 금속 부분의 항 --관 코팅 및 항공기 피부는 겸손한 환경에서 저항 할 수있다.

우수한 광학 및 전기 특성

가시 광선 밴드에서 크롬의 반사율은 약 60%-70%이며, 적외선에서는 특히 90%이상 .에 도달 할 수 있습니다. 반도체의 실리콘 구성 요소와의 접촉 저항은 낮아서 전도도.에 적합합니다.

스퍼터링 증착에 이상적인 재료

그것은 대부분의 내화성 금속 (예 : 텅스텐 및 몰리브덴)보다 높은 순도와 스퍼터링 효율을 가지며, 안정적인 증착 속도 . 대규모 기판에서 균일 한 박막을 준비 할 수 있으며 대규모 생산 (예 : 디스플레이 패널 및 태양 세포) .에 적합합니다.

차원

등급	CR009302, CR009500, CR009600 등 .
청정	99.95%,99.9%,99.99%,99.999%
두께	3mm -40 mm
지름	50mm -160 mm
녹는 점	1857 학위
밀도	7.2g/cm³
모양	디스크
표면	연마, 알칼리 청소
인증	ISO9001

애플리케이션

1. 반도체 산업

크롬 필름은 종종 박막 증착 재료 . 그들의 높은 내열성과 우수한 화학적 안정성으로 사용됩니다. 반도체 장치의 전반적인 성능과 내구성 ..
2. 태양 광 산업
크롬 표적 재료는 배터리의 광 흡수 속도를 향상시키고 표면 반사율을 줄임으로써 태양 전지판 .를 제조하는 데 사용될 수 있습니다. 태양 에너지 전환 효율을 증가시켜 태양 전지판의 발전 용량을 높이고 에너지 비용을 낮출 수 있습니다. ..
3. 자동차 및 건물을위한 장식 및 보호 코팅
장식용 금속 필름의 생산에 사용 .이 크롬 필름은 매력적인 광택과 색상을 제공 할뿐만 아니라 추가적인 방지 및 내마모성 보호 기능을 제공하여 제품의 외관과 내구성을 향상시킵니다 ..
4. 전자 구성 요소, 디스플레이 및 도구를위한 물리적 증착 필름 및 기능 코팅 (PVD 방법) .
5. 진공 크롬 도금은 시계 부품, 가정용 기기 구성 요소, 유압 실린더, 슬라이드 밸브, 컬러 유리 및 기타 기계 및 장비 .에 사용됩니다.

반도체 제조에서 크롬 스퍼터링 표적의 적용

스퍼터링 코팅 공정에 주로 사용되며, 균일하고 밀도가 높고 강한 접착력 크롬 필름을 형성 할 수 있으며, 이는 반도체 장치의 성능과 안정성을 크게 향상시킬 수 있습니다 .
크롬 CR 표적은 통합 회로의 증착 필름에 널리 사용되며 마이크로 일렉트로닉 장치의 전도성 경로 및 연결에 사용되며, 전도성 층의 효율적인 열 소산 및 안정적인 전송 .
크롬 CR 둥근 표적은 에칭 방지 층에도 사용되며, 에칭 프로세스 중에 회로 구조를 손상으로부터 보호하고 회로 패턴의 무결성을 향상시킬 수 있습니다.
광학 센서 및 태양 전지와 같은 특정 특정 반도체 장치에서 크롬 표적에 의해 스퍼터링 된 고품질 필름은 장치의 광학 성능 및 서비스 수명을 더욱 최적화 할 수 있습니다 .

프로세스

파우더 야금 : 저렴한 비용, 대형 크기 및 특수 모양 대상 준비에 적합합니다 (곡선 대상과 같은)

chromium 크롬 분말을 정제 한 후, 소량의 소결 보조 장치와 혼합하고 볼 밀링을 통해 분말 입자를 균질화합니다. ..

cold 콜드 등방성 프레스 또는 뜨거운 등방성 프레스를 통해 블랭크를 만들기 위해 대상의 밀도를 높이기 .

③ 확산 소결을 통해 모공을 제거하고 재료의 밀도를 증가시키기 위해 2-4 시간 동안 수소 보호 대기 용광로의 소결 .

④ 소결 공백을 자르고 갈아서 치수 공차를 줄이고 초음파 청소 후 표면을 닦아 표면 산화물 층을 제거합니다 ..

용융 방법 : 고밀도, 고순도가 높지만 복잡한 프로세스, 높은 비용, 주로 원형 또는 직사각형 표준 목표에 사용 .

① 전자 빔 용융 또는 진공 아크 용해를 사용하여 고순도 크롬 블록을 녹입니다. .

② 용융 크롬 액체를 잉곳에 넣은 다음 핫 포지 또는 핫 롤 .

romed 단조 크롬 잉곳을 맞춤형 크기로 자르고 기계식 연삭을 통해 산화물 스케일을 제거한 다음 어닐링 .

∎ 외관 검사, 치수 정확도, 강도 테스트 등과 같은 포장 및 배송 전 포장 품질 검사를 수행합니다. .

영화

Cobalt Chromium Tungsten Targets

CoCrW Sputtering Targets

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사례

크롬 표적, 99.95% 크롬 CR 목표

1 월 초, 우리는 한국 고객 . 고객과 목표 관련 무역 협력 계약에 서명했습니다. 고객은 전자 장비 생산에 사용하기 위해 일정량의 99 . 95% 크롬 CR 목표를 주문했습니다. . 우리는 크기, 제품 수량, 가격 및 전달 시간에 대한 합의에 도달했습니다.
우리는 . 분말 야금 가루를 처리하는 데있어 고객의 요구 사항에 따라 분말 야금 공정을 사용하여 고급 크롬 분말을 모양으로 누른 다음 . 이는 . 이는 .를 대상으로하는 데 적합합니다 (. .은 고화도, 미세한 과정, 및 표면적 인 치료 및 딜링 과정, 붕질 및 표준 치료 및 표준 치료를 얻는 데 적합합니다. 연마가 필요합니다 . 마지막으로, 국제 표준을 충족시키기 위해 품질 및 성능 테스트를 수행해야합니다 .

제품 자격

ISO9001

인기 탭: Chromium Target, 공급 업체, 제조업체, 공장, 맞춤형, 도매, 가격, 인용문, 판매