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티타늄-알루미늄 타겟
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티타늄-알루미늄 타겟

티타늄-알루미늄 타겟

티타늄-알루미늄 타겟은 절삭 공구의 경도와 수명을 향상시킬 수 있으며 하드웨어 공구 코팅, 장식 코팅, 평면 디스플레이 코팅, PVD 및 CVD 공정, 반도체 부품, 다양한 마그네트론 스퍼터링 기계 및 이온 도금 기계에 널리 사용됩니다.
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Product Details of티타늄-알루미늄 타겟

티타늄-알루미늄 타겟 설명

알루미늄은 증착이 용이하고, 전기전도도가 높으며, 열전도도가 좋고, 기판과의 접착력이 좋고, 비용이 저렴한 특성을 가지고 있고, 티타늄은 내식성과 비자성 특성이 좋아 이 둘로 구성된 티타늄-알루미늄 타겟은 첨단 산업 또는 스퍼터링 처리의 전자 공학. 티타늄-알루미늄 타겟은 절삭 공구의 경도와 수명을 향상시킬 수 있으며 하드웨어 공구 코팅, 장식 코팅, 평면 디스플레이 코팅, PVD 및 CVD 공정, 반도체 부품, 다양한 마그네트론 스퍼터링 기계 및 이온 도금 기계에 널리 사용됩니다.
티타늄-알루미늄 타겟은 전자 빔 용해 및 진공 소모성 전기로 용해로 생산할 수 있습니다. 가공하는 동안 재료의 순도, 밀도 및 입자 크기를 엄격하게 제어해야 할 뿐만 아니라 열처리 및 성형 공정에도 주의를 기울여야 합니다. 환경 조건.

티타늄-알루미늄 타겟 사양:

등급

TiAl25/75,30/70,40/60

기술

열간 정수압 프레스, 제련, 소결, 단조, 어닐링

청정

99.5-99.9퍼센트

두께

3mm-30mm

길이

10mm-2000mm

지름

<500 mm

밀도

3.4g/㎤3

모양

디스크, 플레이트, 열 대상, 단계 대상, 맞춤형

표면

광택, 알칼리 세정, 연삭, 흑색 산화물 등

배달 시간

20-30일

인증

ISO9001 인증

티타늄-알루미늄 타겟 사진:]

Titanium Ti Sputtering Target

Titanium Aluminum Sputter Targets

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