티타늄 실리콘 평면 스퍼터링 타겟
티타늄 실리콘 평면 스퍼터링 타겟 설명
티타늄 실리사이드는 로컬 트랜지스터 연결의 면저항을 줄이기 위해 실리콘 및 폴리실리콘 라인에 실리사이드 기술을 활용하여 일반적으로 생산되는 무기 화합물입니다. 티타늄 실리콘 평면 스퍼터링 타겟은 일반적으로 높은 경도, 낮은 마모, 우수한 내열 충격성, 고순도, 미세하고 균일한 입자, 긴 수명, 높은 산화 저항 및 높은 코팅과 같은 일련의 장점을 가진 고급 HIP 기술로 생산됩니다. 품질 . 티타늄 실리콘 평면 스퍼터링 타겟은 금속 코팅에 탁월한 재료입니다. 그것에 의해 코팅된 하드웨어 도구는 내마모성이 매우 강하여 높은 절단 속도에서 작업할 수 있으며 매우 단단한 니켈 합금 및 티타늄 재료도 처리할 수 있습니다. 티타늄 실리콘 평면 스퍼터링 타겟은 반도체 산업, 장식, 디스플레이, LED 및 광전지 장치, 유리 코팅 및 기타 산업 분야에 매우 적합합니다.
티타늄 실리콘 평면 스퍼터링 타겟 사양:
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등급 |
Ti85Si15, Ti80Si20, Ti75Si25, Ti70Si30 등 |
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기술 |
열간 정수압 프레스, 용접, 소결, 단조, 어닐링 |
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청정 |
99.8퍼센트 |
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두께 |
3mm-30mm |
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길이 |
10mm-2000mm |
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원형 지름 |
50-100mm |
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밀도 |
4.17-4.4.g/cm3 |
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유형 |
평면 스퍼터링 타겟 |
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모양 |
디스크, 플레이트, 열 대상, 단계 대상, 맞춤형 |
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표면 |
광택, 알칼리 청소, 연삭, 흑색 산화물 등 |
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인증 |
ISO9001 |
티타늄 실리콘 평면 스퍼터링 타겟 그림:
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