텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟

텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟

FANMETAL은 반도체 분야의 PVD 코팅 시스템에 사용되는 W-Ti 합금 텅스텐 알루미늄 스퍼터링 타겟을 공급합니다. Ti 내용 10%~50%, 일반적으로 우리는 WTi 90:10 성분을 공급합니다. 우리는 또한 고순도 99.9999 %, 귀금속 타겟 (Au, Ag, Pt), 목표 본딩 서비스, 도가니 라이너 (구리, 몰리브덴, 텅스텐 등)에 다른 금속 타겟 및 증발 재료를 제공합니다.

텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟 프로세스 :

HP 고온 프레스 소결, 고압 및 고온 절연, 좋은 밀도 텅스텐 티타늄 합금을 생산합니다. 밀도는 99.5 % 이상, 정밀 가공, 좋은 밀도, 좋은 순도 및 좋은 표면 마무리에 도달합니다.

반도체 칩이 새로운 타겟 텅스텐 티타늄 합금 배리어층과 확산 접합층을 선택하는 주된 이유는 우수한 표면 접착력과 우수한 방열 특성을 갖는 합금이다. 이런 식으로 준비된 제품은 더 높은 포괄적 인 성능을 갖게됩니다.

텅스텐 티타늄 스퍼터링 대상 사진:

텅스텐 티타늄 스퍼터링 타겟은 전이 금속 텅스텐과 티타늄의 장점을 가진 합금입니다. 그것은 더 높은 밀도와 순도, 더 나은 내식성 및 더 작은 부피 팽창 효과를 가지고있어 제조 공정의 변화 횟수를 효과적으로 줄일 수 있습니다. 중간 입자의 형성은 성공적으로 고품질 필름을 준비 할 수 있습니다.

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