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지르코늄 평면 타겟
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지르코늄 평면 타겟

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Zirconium Planar Target의 제품 소개: Zirconium Planar Target은 고순도, 고밀도, 균일한 구성, 미세 입자 및 긴 수명의 특성을 갖는 고급 열간 정수압 압축(HIP) 및 분말 야금 공정으로 제조됩니다. 우리는 모니터링 ...
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Product Details of지르코늄 평면 타겟

지르코늄 평면 타겟의 제품 소개:

Zirconium Planar Target은 고순도, 고밀도, 균일한 구성, 미세 입자 및 긴 수명을 특징으로 하는 고급 열간 정수압 성형(HIP) 및 분말 야금 공정으로 제조됩니다. 우리는 고품질의 제품만 공장에서 배송되도록 모든 단계(원자재에서 완제품까지)의 품질을 모니터링합니다. Zirconium Planar Target은 금속 가공 산업, 건설 산업, 유리 산업 및 자동차 제조 산업에서 요구되는 장식 코팅 및 기능성 코팅을 생산하는 데 사용할 수 있습니다. 그것은 금속 연마 광택을 추가할 수 있을 뿐만 아니라 도구의 내식성을 향상시킵니다. 내마모성, 고온 저항 및 내구성.

Zirconium Planar Target을 포장할 때 격리 및 보호를 위해 충분히 두꺼운 발포체를 사용하고 외부 포장에는 철제 끈이 달린 튼튼한 상자를 사용하여 운송 중에 손상되지 않도록 합니다.

지르코늄 평면 대상 사양:

 

재료

지르코늄

 

 

청정

R60702

 

 

밀도

6.50g/㎤3

 

 

프로세스

열간 정수압 프레스, 소결, 진공 용해, 단조, 가공

 

 

너비

최대 400mm

 

 

길이

100mm-3000mm

 

 

두께

1.0 – 50mm

 

 

표면

광택, 밝음, 화학 세정, 흑색 산화물 등

 

 

모양

직사각형

 

 

기준

ASTM B550, ASTM B551, GB

 

 

배달 시간

약 20일

 

 

인증

ISO9001

 

지르코늄 평면 대상 그림:

Zirconium Sputter Targets

Zirconium 702 Sputter Targets

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