텅스텐 이온 주입 부품

텅스텐 이온 주입 부품 설명

이온 주입은 재료의 표면 특성을 최적화하거나 새로운 우수한 특성을 얻을 수 있는 재료 표면 개질의 신기술이며, 반도체 및 집적 회로 제조에서 중요한 역할을 합니다. 텅스텐 재료는 고밀도, 높은 융점, 안정적인 고온 화학적 특성, 작은 열 변성, 우수한 열 전도성 및 긴 사용 수명 등의 장점을 갖고 있기 때문에 반도체 산업의 이온 주입기용 이온 소스 및 소모품으로 가장 먼저 선택됩니다. . 텅스텐 이온 주입 부품은 일반적으로 분말 야금 기술로 제작되며 일반적으로 방전 음극의 차폐 실린더, 방출 패널, 중앙 고정 막대 및 아크 발생 챔버의 필라멘트 플레이트로 구성됩니다. 텅스텐 이온 주입 부품은 항공 우주, 과학 실험, 금속 가공, 고온로, 사파이어 정제 산업 및 세라믹 산업에서 널리 사용될 수 있습니다.

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