99.95% 순수한 NB2O5 표적

99.95% 순수한 NB2O5 목표 설명

재료 선택 및 처리

우리는 주로 뜨거운 프레스 소결 방법이나 녹는 방법을 사용합니다. 전자는 먼저 니오피움 펜 옥사이드 분말과 니오 비움 분말을 혼합 한 다음 고온에서 소결을하여 밀도가 높은 니오피움 산화물 표적을 준비하는 것입니다. 이 방법은 곡물을 개선하고 대상의 밀도 및 기계적 특성을 향상시킬 수 있습니다. 후자는 진공 또는 불활성 가스 보호 아래에서 니오피움 펜 옥사이드 분말을 가열하고 녹인 다음 곰팡이에 붓고 표적의 형태로 던지는 것입니다. 실제 응용 프로그램 요구 사항을 충족시키기 위해 대상의 순도, 밀도 및 균일성에 특별한주의를 기울여야합니다.

형질

• as 스퍼터링 과정에서 순도와 고밀도는 고품질 및 균일 한 필름 증착을 보장합니다.
• High 열전도율과 고온 저항이 우수한 고온 환경에서 안정적인 성능을 유지하는 데 도움이됩니다.
• 스퍼터링 속도가 높으면 생산 효율성을 더욱 향상시키고 스퍼터링 시간을 줄이며 생산 비용을 줄일 수 있습니다.
• power elexcellent superconducting performance : 전력 전송 분야에서 고온 초전도 필름은 전송 손실을 크게 줄이고 전송 효율을 향상시킬 수 있습니다.
• 내마감, 강한 충격 저항은 고속 에너지 입자의 지속적인 폭격과 긴 서비스 수명을 견딜 수 있습니다.

애플리케이션

99.95% 순수한 NB2O5 표적은 적절한 공정 조건 하에서 마그네트론 스퍼터링, 다중 아크 이온 도금 또는 기타 유형의 코팅 시스템을 통해 기판상의 다양한 기능 필름을 형성하는 스퍼터링 소스이다. 이들은 주로 전자 평면 패널 디스플레이, 화학 기상 증착 및 물리 증기 증착 가공, 에너지 공학, 유리 코팅, 초전도 산업, 자동차 제조 및 기타 분야에 대한 다양한 고온 초전도 필름을 준비하는 데 사용됩니다.

99.95% 순수한 NB2O5 표적 치수

99.95% 순수한 NB2O5는 그림을 목표로합니다

제품 자격

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