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지르코늄 702 평면 타겟
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지르코늄 702 평면 타겟

지르코늄 702 평면 타겟

지르코늄 702 평면 타겟 설명 지르코늄은 우수한 내식성, 높은 융점 및 우수한 기계적 특성을 지닌 금속 원소로 원자로, 항공우주 및 의료용 임플란트를 포함한 다양한 응용 분야에 유용합니다. 지르코늄 702 평면 타겟...
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Product Details of지르코늄 702 평면 타겟

지르코늄 702 평면 타겟 설명

지르코늄은 우수한 내식성, 높은 융점 및 우수한 기계적 특성을 지닌 금속 원소로 원자로, 항공우주 및 의료용 임플란트를 비롯한 다양한 응용 분야에 유용합니다. 지르코늄 702 평면 타겟은 진공 용융 또는 열간 등압 성형 기술을 사용하여 만들 수 있으며, 이는 고순도, 고밀도 및 균일한 타겟 구조를 생성하여 박막 코팅의 성능과 수명을 향상시킬 수 있습니다. Zirconium 702 Planar Target은 물리기상증착(PVD) 등의 공정에서 고순도 지르코늄 증기를 생성하여 균일하고 고품질의 필름을 형성할 수 있으며, 반도체용 장식필름, 광전자소자, 공구코팅, 생활필수품 제조에 사용됩니다. 그것은 중요한 역할을했습니다. 당사에서 제공하는 Zirconium 702 Planar Target은 이러한 장점을 가지고 있으니 부담없이 이메일로 문의해 주시기 바랍니다.

지르코늄 702 평면 타겟 사양:

재료

지르코늄

청정

R60702

밀도

6.52g/cm23

너비

20-500mm

길이

100mm-3000MM

두께

>1 밀리미터

표면

광택, 밝음, 화학 세척, 흑색 산화물 등.

기준

ASTM B550,ASTM B551,GB

인증

ISO9001

지르코늄 702 평면 대상 사진

Zirconium Sputter Targets

Zirconium Sputtering Target

인기 탭: 지르코늄 702 평면 타겟, 공급업체, 제조업체, 공장, 맞춤형, 도매, 가격, 견적, 판매

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